La validation de méthode en spectrométrie d’émission optique à source plasma

De l’échantillon au résultat

 
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    Présentation

    L’analyse élémentaire a connu des développements instrumentaux majeurs depuis les années 70. C’est tout particulièrement le cas avec la spectrométrie d’émission atomique à source plasma (ICP-OES), commercialisée pour la première fois en 1974, et qui s’est rapidement imposée en se déployant très largement dans les laboratoires de caractérisation.

    Bien que l’ICP-OES soit devenue une technique d’analyse de routine, les exigences de la mesure imposent une maîtrise complète du processus opératoire et du système de management de la qualité associé.

    L’objectif de cet ouvrage est de guider l’analyste durant tout le processus de validation de sa mesure et de l’aider à garantir la maîtrise de ses principales étapes : gestion administrative et physique des échantillons au laboratoire ; préparation et traitement de ceux-ci avant mesure ; qualification et suivi de l’appareillage ; réglages instrumentaux et stratégie d’étalonnage ; exploitation des résultats en termes de justesse, fidélité, incertitude et exactitude (avec la détermination pratique du « profil d’exactitude »). Le guide s’appuie pour cela sur la terminologie la plus actuelle et sur de nombreux exemples et illustrations destinés à faciliter la compréhension et la constitution des dossiers de validation de méthode.

    Cet ouvrage collectif a été constitué dans le cadre des travaux de la Commission d’ÉTAblissement des Méthodes d’Analyses du Commissariat à l’Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives. Trente-huit spécialistes de l’ICP-OES, travaillant dans des laboratoires de recherches de grands organismes (AREVA, ARKEMA, CEA, C2RMF, EDF, EURODIF, IRSN) et d’Universités (Université de Pau et des Pays de l’Adour, Université Claude Bernard Lyon 1), y ont contribué durant plus de dix ans. 

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